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【2h】

Improved electrical properties of atomic layer deposited tin disulfide at low temperatures using ZrO2 layer

机译：使用ZrO2层在低温下改善原子层沉积的二硫化锡的电学性质

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Juhyun Lee; Jeongsu Lee; Giyul Ham; Seokyoon Shin; Joohyun Park; Hyeongsu Choi; Seungjin Lee; Juyoung Kim; Onejae Sul; Seungbeck Lee; Hyeongtag Jeon;
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年度 2017
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